实验室小型回转式CVD设备：1200℃连续进出料回转CVD系统

实验室小型回转式CVD设备是一种用于化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）的实验装置，具有回转式炉管结构，主要用于粉末或颗粒材料的表面包覆、薄膜沉积和纳米材料合成。其核心原理是在高温条件下，使反应气体在基体表面发生化学反应，沉积出所需的功能薄膜或涂层。

实验室小型回转式CVD设备是一种功能强大、适应性强的材料制备高温设备，特别适合粉末材料的表面改性与功能化，在新能源、催化、纳米材料、功能薄膜等领域具有广泛应用前景

工作原理:

反应气体在加热的炉管内与样品表面发生化学反应,生成固态沉积物,形成薄膜或包覆层。回转结构使粉末材料在反应过程中保持悬浮或流动状态,提高反应效率和均匀性

主要应用

粉末表面包覆:

对石墨、金属氧化物、陶瓷粉末等进行碳、氮化物等薄膜包覆,提高其导电性、稳定性或催化性能。

纳米材料制备:

制备碳纳米管、石墨烯、纳米硅、TiN、SiC等纳米结构材料。

功能薄膜沉积:

沉积SiO2、Si3N4、ZnO等氧化物、氮化物薄膜,用于电学、光学或保护层应用。

催化剂开发:

制备担载型金属纳米粒子催化剂,提高催化活性和选择性。

新能源材料研究:

用于锂电池正负极材料的表面改性、包覆碳层等,提高循环稳定性和导电性

设备组成

该款回转式CVD设备配备炉管回转加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等；

结构组成:

回转式管式炉(通常为多温区加热)

真空系统(实现低压或高真空环境)

气体控制系统(质量流量计控制多种反应气体)

旋转系统(使粉末材料在反应过程中不断翻动,增强反应均匀性)

控制系统(PID温控、PLC或触屏操作)

结构特点

1、采用一体式设计，占用空间小

2、回转炉炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-25°之间；

3、真空系统由一个真空计和一台机械泵组成，右端法兰上配有压力保护装置和一个截止阀控制的进气口；

4、右端作为进料端，配有进料罐和送料机构作为进料使用；

5、左端法兰上配有真空计和一个球阀控制的出气口以及一个KF25真空接口；

6、左端作为出料端，配有出料系统和收料罐。

技术参数