真空气氛炉:实验室用真空气氛电阻炉

这款500℃～1800℃真空气氛炉为实验室用真空气氛电阻炉，可分为低温真空气氛炉、中温真空气氛炉、高温真空气氛炉三种加热形式，加热元件可分为电阻丝（1100℃以下使用）、硅碳棒（1400℃以下使用）、硅钼棒（1800℃以下使用）等；

该款真空气氛炉集成炉体、加热系统、混气系统、真空系统、循环水冷系统，炉体采用卧式罐体结构，外部整体真空密封，内部加热腔体。

PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统；气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进出气口，可以预抽高真空并能通氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体。

该真空气氛炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的常用高温设备产品。

结构特点：

1、采用满焊卧式罐体结构，具有一定的正负压承受性能，可抽真空，真空度可达10Pa以下，并能通入多种保护气氛；

2、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显优于国内纤维材料；

3、采用高温电阻加热，加热稳定，使用寿命长。

1）、加热元件采用高电阻合金丝0Cr27Al7Mo2，发热温度可达1300℃；

2）、加热元件采用硅碳棒，发热温度可达1450℃；

3）、加热元件采用硅钼棒，发热温度可达1850℃；

4、炉门采用内高温门+外密封门设计，炉门采用硅胶垫+手轮压紧，可有效保证整体的密封性；炉门口配有循环水冷系统，有效的延缓密封垫的老化；

5、外部整体真空密封，内部加热腔体，便于更换加热元件；

6、温控系统采用智能控温仪表，控温精度更精确；可以预设多条加热曲线，分配给不同的烧结材料，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改温度参数；

7、配置进口压力传感器，过压自动泄压保护，操作安全可靠；

9、超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠。

型号规格参考：

*在不同气氛环境下，硅钼棒的使用温度不同

1700度高温气氛炉在各种气氛下使用温度：

真空气氛炉

富氧气氛炉

低氧气氛炉

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