1200℃真空井式坩埚炉\小型坩埚炉
真空井式坩埚炉以含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等点。
1200℃真空井式坩埚炉用途:
1200℃真空井式坩埚炉用于气氛保护下烧结、真空下反应烧结等。广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。 主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。主要技术参数:
电炉名称 |
1200℃真空井式坩埚炉
Vacuum crucible furnace |
额定温度 | 1200℃ |
工作温度 | 1100℃ |
推荐升温速率 | 10℃/min |
控温精度 | ±1℃ |
炉膛有效尺寸 | Ø180*210(外径*高) |
泄压阀工作压力 | 0.05Mpa |
额定电压 | AC 220V 50/60 Hz |
额定功率 | 3KW |
外形尺寸 | 460mm*460mm*720mm (长*宽*高) |
可通入气氛 | 氮气、氩气等保护性气体 |
使用环境:
环境温度≤40℃,相对湿度≤85%,
设备周围无导电尘埃和易燃易爆气体。
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